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在印刷电路板的生产中，无论是工业用还是个人用，都经常使用光敏清漆。其中最好的一种是 KONTAKT CHEMIE 的 POSITIV 20 光刻胶清漆，易于使用、易于去除、高度敏感且相对便宜。

使用这种清漆时，图像直接从光掩模正片曝光，无需制作中间负片。 200毫升的气雾剂通常可以覆盖4平方米的铜箔。

POSITIV 20 光刻胶清漆可在 8 至 12°C 的温度下保存一年。不要过度冷却 POSITIV 20。

没有经验，如何自己制作一块板子？考虑这个过程的主要阶段。

待涂光刻胶的箔片表面必须绝对干净且无油脂。去除氧化物和杂质后，铜呈现亮粉色。然后将板坯在大量水中洗涤以除去洗涤剂组合物和磨料颗粒的残余物。今后板坯的工作表面不应再与其他溶剂（丙酮、酒精）接触，更不能用手触摸。

清洗后，用吹风机的热风吹干工件。漆干燥后应立即涂漆，以免箔上形成氧化膜。 POSITIV 20 不必在完全黑暗的情况下应用 - 在液态下，光刻胶对光不敏感。工作可在漫射照明下进行，排除阳光直射或强光照射工件表面。同样重要的是工作场所没有气流和灰尘。

光刻胶在室温下涂覆，因此必须在使用前 4-5 小时将其从存储中取出。将板坯放置在水平或稍微倾斜的表面上，并在距离约 20 厘米的距离处用喷雾罐喷射化合物。为了形成均匀的涂层，请从左上角开始以连续之字形运动喷射化合物。避免过度喷涂，因为这会导致条纹和涂层厚度不均匀。未来，这将需要增加曝光。

为了减少光刻胶的损失，允许从较短的距离喷射气溶胶。喷涂时，请确保包装喷嘴始终位于容器上方，以避免推进剂气体的无用消耗。否则，当气溶胶中仍残留有光刻胶时，气溶胶就会停止工作。

所得层的厚度可以通过其颜色来近似估计 - 浅灰蓝色对应于 1 ... 3 微米的厚度，深灰蓝色 - 3 ... 6 微米，蓝色 - 6 ... 8 微米和深蓝色——超过8微米。在浅铜上，涂层的颜色可能带有绿色调。

喷涂光刻胶后，板坯应立即转移至暗处干燥。随着涂层干燥，涂层的光敏度（尤其是对紫外线（UV））的敏感性增加。

在没有特殊设备的情况下，光清漆层可以在室温下干燥至少24小时。为了加快该过程，将工件放置在烘箱或恒温器中。如果使用家用加热器（例如电烤架或吹风机）进行干燥，请确保外部和加热元件没有光线。缓慢升高温度。在 70°C 的温度下干燥 20 分钟就足够了。将工件加热到 70°C 以上可能会损坏光层。

曝光前干燥的板坯库存应存放在避光、干燥、阴凉的地方。

用于转移到箔上的印刷导体的原始图像必须仔细准备和修饰，否则其所有缺陷都会影响复制的质量。重要的是图案具有对比性，并且黑暗区域完全不透明。必须排除原件的折痕和折痕。光掩模的基础——薄膜或纸张——必须透射紫外线，但涂料不能。

一些出版物在其页面上放置了专门为所述技术设计的印刷电路板图。 - 此类图纸的反面留空。使用 KONTAKT CHEMIE 的 TRANSPARENT 21 喷雾处理页面后，纸张对紫外线变得透明，即适合将图纸直接从页面复制到纸板坯上。 TRANSPARENT 21 消除了繁琐的电路板图纸复制工作。

将光掩模紧紧压在工件的光刻胶层上并进行强烈照射。曝光所需的时间取决于工件上光刻胶层的厚度和光线的强度。由于 POSITIVE 20 清漆对紫外线敏感，建议使用 300 W 汞灯或石英灯进行曝光。使用功率为200W的普通白炽灯在距离物体约12cm处获得满意的结果，在开始照明之前将灯加热2…3分钟。

距离 25...30 cm 的汞灯照射时间通常不超过 1...2 分钟。当然，您也可以使用富含紫外线的明亮阳光（曝光时间 - 5 ... 10 分钟）。

要将光掩模压到工件上，最好使用一片有机玻璃，因为普通玻璃吸收高达65%的紫外线，这将需要相应增加曝光时间。当使用长期储存的光刻胶时，曝光时间也必须增加（对于长达一年的储存期，大约两倍）。

如果原件上有小细节，那么为了保持箔片上的尺寸并在最窄的元素上获得均匀的对比边缘，应在曝光前将光掩模应用到光致抗蚀剂上，其中应用绘图的一侧。在某些情况下，这使得有必要生成镜像的中间图。

暴露的空白可以在漫射日光下显影。显影剂成分：每升冷水含 7 克粉状烧碱 NaOH。将工件放入装有显影剂的容器中并搅拌溶液。对于正确曝光的 4–6 µm 厚的光刻胶层，在新鲜溶液中的显影时间通常不超过 0,5–1 分钟。最长 - 2 分钟显影剂温度应在 20...25°C 以内。

显影剂将工件涂层曝光区域的光刻胶完全去除。工件在溶液中的停留时间不要超过显影所需的时间，否则工件将开始作用于不适合蚀刻的未曝光区域。如果曝光时间太长或者用于绘图的墨水不是紫外线不透明的，则导电迹线的图像会出现一段时间，但随后会被显影剂去除。

将工件从溶液中取出后，用流动的冷水彻底冲洗。处理烧碱溶液后彻底洗手。

POSITIV 20 光刻胶漆层可耐受含有三氯化铁 FeCl3 的酸性溶液。过硫酸铵 (NH4)2S2O8。盐酸和氢氟酸。铜箔板建议在浓度为35…40%的氯化铁溶液中在45℃左右的温度下进行蚀刻。为了加速蚀刻，稍微搅拌溶液。该过程的终点是目视确定的。

蚀刻结束后，用肥皂水清洗板坯，并清除不再需要的光刻胶残留物。该操作可以用一块浸有任何有机溶剂（例如丙酮）的布来进行。

此外，在处理印刷电路板时，会使用 FLUX SK10（印刷电路板焊接准备）和 URETHAN 71（保护性丙烯酸清漆）。

作者：电子元件，莫斯科

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